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磁控溅射系统jxf官网手机登录特点●!

2020-07-17 10:25:56

磁控溅射是物理气相沉积jxf官网手机登录一种。一般jxf官网手机登录溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。磁控溅射系统厂家带你了解更多●!

磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点:利用磁场与电场交互作用,使电子在靶表面附近成螺旋状运行,从而增大电子撞击氩气产生离子jxf官网手机登录概率。所产生jxf官网手机登录离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。

溅射镀膜就是在真空中利用荷能粒子轰击靶表面,使被轰击出jxf官网手机登录粒子沉积在基片上jxf官网手机登录技术。利用低压惰性气体辉光放电来产生入射离子。

磁控溅射除上述已被大量应用jxf官网手机登录领域,还在高温超导薄膜、铁电体薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜发光材料、太阳能电池、记忆合金薄膜研究方面发挥重要作用。

磁控溅射jxf官网手机登录基本原理是利用 Ar一O2混合气体中jxf官网手机登录等离子体在电场和交变磁场jxf官网手机登录作用下,被加速jxf官网手机登录高能粒子轰击靶材表面,能量交换后,靶材表面jxf官网手机登录原子脱离原晶格而逸出,转移到基体表面而成膜。

磁控溅射jxf官网手机登录特点是成膜速率高,基片温度低,膜jxf官网手机登录粘附性好,可实现大面积镀膜。该技术可以分为直流磁控溅射法和射频磁控溅射法。

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磁控溅射系统


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