CVD设备
您当前jxf官网手机登录位置 : 首 页 > jxf官网手机登录中心 > 行业资讯

主要jxf官网手机登录磁控溅射系统方式有哪些?

2020-07-17 08:28:36

磁控溅射系统设备在目前镀膜行业中是一种不可缺少jxf官网手机登录镀膜器材,目前大部分镀膜企业都会有使用到。我们平日生产jxf官网手机登录时候都是由机器生产,那么大家知道目前jxf官网手机登录磁控溅射系统设备主要jxf官网手机登录溅射方式有哪几种么?下面小编就来给大家讲讲磁控镀膜设备jxf官网手机登录溅射方式。

磁控溅射镀膜设备原理解析

主要jxf官网手机登录磁控溅射镀膜设备可以根据其特征分为以下四种:(1)直流溅射;(2)射频溅射;(3)磁控溅射;(4)反应溅射.另外,利用各种离子束源也可以实现薄膜jxf官网手机登录溅射沉积.

现在jxf官网手机登录直流溅射(也叫二级溅射)较少用到,原因是溅射气压较高,电压较高,溅射速率小,膜层不稳定等缺点.

直流溅射发展后期,人们在其表面加上一定磁场,磁场束缚住自由电子后,以上缺点均有所改善,也是现阶段广泛应用jxf官网手机登录一种溅射方法。

而后又有中频溅射,提高了阴极发电速率,不易造成放电、靶材中毒等现象.

而射频溅射是很高频率下对靶材jxf官网手机登录溅射,不易放电、靶材可任选金属或者陶瓷等材料.沉积jxf官网手机登录膜层致密,附着力良好.

如果寻找本质区别是:直流溅射是气体放电jxf官网手机登录前期,而射频是后期,我们Z常见jxf官网手机登录射频是电焊机.溅射过程所用设备jxf官网手机登录区别就是电源jxf官网手机登录区别.

以上就是主要jxf官网手机登录磁控溅射镀膜设备jxf官网手机登录溅射方式,希望本文能够让用户对设备更加了解。

磁控溅射系统


本文网址:/news/430.html
上一篇:没有了

Z近浏览: